※本セミナーは一般の方(当学会の会員ではない方)にもご参加頂けます。

特定非営利活動法人 産学連携学会では、首都圏を中心とした地域で産学官連携に興味を持つ方同士の情報交換やネットワーク作りに資する事を目的に、セミナーを定期的に開催しております。
 第26回目となる「お茶の水コラボレーションセミナー」は、次世代パワー半導体の革新的な技術を開発した京都大学発ベンチャー企業の株式会社FLOSFIA(フロスフィア)の國枝 浩二様をお迎えし、『京都大学発 ミストCVD成膜技術と次世代パワーデバイス技術の事業化への挑戦』と題してご講演頂きます。

ぜひ、多くのご関心のある方々の参加をお待ちしております。
■開催要領
主  催:特定非営利活動法人 産学連携学会
共  催:国立研究開発法人科学技術振興機構(JST)
後  援:医学系大学産学連携ネットワーク協議会 (medU-net)
場  所:国立研究開発法人科学技術振興機構(JST) 東京本部別館2階セミナー室
     (〒102-0076 東京都千代田区五番町7 K's五番町 )

○日  時:平成29年9月13日(水)17時~18時30分(終了後 懇親会を開催)
○場  所:国立研究開発法人科学技術振興機構(JST)東京本部別館2階セミナー室
      (〒102-0076 東京都千代田区五番町7 K's五番町 )
○参加費用:無料(懇親会費1,000円)
○講演者:株式会社FLOSFIA(フロスフィア) 営業部 國枝 浩二 様
○講演テーマ:『京都大学発 ミストCVD成膜技術と次世代パワーデバイス技術の事業化への挑戦』
○講演概要:
株式会社FLOSFIAは、真空ポンプを使わずにナノメートルの厚み制御も可能な「ミストCVD成膜技術」をコア技術として事業を展開している京都大学発のベンチャー企業である。
このミストCVD 成膜技術に関する事業の展開や次世代パワーデバイスとして期待される酸化ガリウム半導体のデバイスの試作に世界で初めて成功したことなどから、第2回「JEITAベンチャー賞」を受賞した。
2017年4月以降だけでも日経テクノロジーオンライン、電子デバイス産業新聞、日刊工業新聞に同社の関連記事が掲載されるなど、注目を集めている。
今回は、同社のミストCVD成膜技術と酸化ガリウムデバイスの開発と事業化にスポットを当て、その事業化と産学連携への取り組みについてご紹介頂く。

お茶の水コラボレーションセミナーの様子


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開催概要

日時 2017年09月13日((午後)17時~18時30分)
終了後 懇親会を開催
開催場所国立研究開発法人科学技術振興機構(JST) 東京本部別館2階セミナー室
(東京都千代田区五番町7 K's五番町)
参加費無料
定員65人(先着順)
申し込み開始2017年07月12日 10時00分から
申し込み終了2017年09月13日 10時00分まで
懇親会 セミナー終了後
懇親会費1,000円(税込)
懇親会定員45人(先着順)
主催

イベント概要

2017年09月13日

第26回お茶の水コラボレーションセミナー【OCS】

東京都千代田区五番町7 K's五番町

http://kokucheese.com/event/index/478037/

※本セミナーは一般の方(当学会の会員ではない方)にもご参加頂けます。 特定非営利活動法人 産学連携学会では、首都圏を中心とした地域で産学官連携に興味を持つ方同士の情報交換やネットワーク作りに資する事を...

イベントは終了いたしました。

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